图书介绍

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等离子体腐蚀译文集
  • 北京电子管厂电子编委会编辑 著
  • 出版社: 北京电子管厂技术情报室
  • ISBN:
  • 出版时间:1976
  • 标注页数:93页
  • 文件大小:21MB
  • 文件页数:95页
  • 主题词:

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图书目录

1等离子体工艺简介1

2射频等离子体的光谱分析6

3通用射频等离子体腐蚀技术11

4薄膜的快速等离子体腐蚀15

5反应等离子体微电子工艺设备的应用18

6等离子体腐蚀周期的确定24

7化学选择的各向异性等离子体腐蚀27

8等离子体腐蚀技术的最近动向32

9等离子体腐蚀技术38

10等离子体腐蚀在集成电路制造中的应用44

11等离子体加工的发展及其质谱监控54

12等离子体腐蚀工艺综述60

13气体等离子体应用于抗反射铬掩模的微加工66

14用气体等离子体腐蚀方法的微细加工技术70

15气体等离子体辐射对双极品体管电学特性的影响73

16等离子体腐蚀可编程序只读存储器及其它问题75

17等离子体腐蚀在失效分析中的应用83

18等离子体腐蚀氮化硅87

16等离子体腐蚀多晶硅89

20一种新的等离子体钻蚀现象90

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